东莞市顺鑫五金电镀有限公司
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真空镀膜的种类

来源: 发布时间:2021-7-6 10:52:28
  真空镀膜中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相堆积也选用减压、低压或等离子体等真空手法,但一般真空镀膜是指用物理的方法堆积薄膜。真空镀膜有三种方法,即蒸腾镀膜、溅射镀膜和离子镀。 
  蒸腾镀膜 经过加热蒸腾某种物质使其堆积在固体外表,称为蒸腾镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技能之一。
  蒸腾物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸腾源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待体系抽至高真空后,加热坩埚使其间的物质蒸腾。蒸腾物质的原子或分子以冷凝方法堆积在基片外表。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸腾源的蒸腾速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的间隔有关。关于大面积镀膜,常选用旋转基片或多蒸腾源的方法以确保膜层厚度的均匀性。从蒸腾源到基片的间隔应小于蒸气分子在剩下气体中的均匀自由程,防止蒸气分子与残气分子磕碰引起化学作用。蒸气分子均匀动能约为0.1~0.2电子伏。 
  蒸腾源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸腾物质,电阻加热源首要用于蒸腾Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸腾物质。③电子束加热源:适用于蒸腾温度较高(不低于2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材料使其蒸腾。